方案概览

含氟废水主要由芯片生产期间的刻蚀工艺产生的，因为刻蚀工艺生产需要用到氢氟酸与氟化铵等物质。企业需要对采用化学沉淀法、离子交换法等方法处理的废水是否达到排放标准进行评估，这就要求对氟化物去除过程进行监测。
该系统采用灵敏的氟化物离子选择性电极（ISE），可提供可靠的测量，低至0.1PPM，高达1000PPM。化学模块为传感器提供样品的调节处理，测量的氟化物浓度值显示在控制器上，该控制器还能提供报警和模拟量输出等功能。
实际测量中，仪器将少量样品泵入系统中，并与缓冲液混合。随后使处理后的样品流入安装有氟化物ISE和参比电极的腔室。在此腔室中测量氟化物离子浓度，氟离子浓度的变化会立即显示在控制器上。而处理后的样品被从测量池中抽回，并泵入采样溢流池的排水口。
艾晟特针对芯片业氟化物的在线监测克服了电极结垢的难题，改善监测的可靠性，也有效提高了电极使用寿命。

解决的痛点

电极结垢影响设备可靠性和使用寿命。

方案特点

维护：只需要很少的维护，一加仑的缓冲液能使系统运行25天，并应每周检查一次测量腔内传感器的液位水平。
模拟输出选项.：两路4-20 mA标准输出，默认设置提供氟化物和温度的模拟输出。
PID输出：标准PID控制功能可分配给一个模拟输出。
数字通信：Profibus-DP，Modbus-RTU或Ethernet-IP的通讯选项。
传感器前置放大器：Auto-Chem模块内的传感器带前置放大器功能，可使控制器与化学模块单元分离安装，远达300英尺。
继电器输出：三个SPDT继电器是标准配置，继电器功能可编程用于报警，控制或故障指示。
独特的降低结垢的设计